製品説明
金{0}}錫合金は、高純度の金と錫の原料を正確な割合で溶解することによって製造され、複数の純度グレードが用意されています。{1}この材料は熱蒸着や電子ビーム蒸着などの薄膜蒸着プロセスに適しており、ハイエンド デバイスの接合強度、気密性、長期信頼性の要件を満たす、均一で緻密で欠陥のない金-スズ合金膜の形成が可能です。-
特徴
- 共晶融点が安定している
- 優れた濡れ性
- 膜形成が均一かつ緻密である
- 蒸発速度が安定している
- 安定した接続性能
- 優れた電気伝導性と熱伝導性を示します
- 不純物が少なく高純度
仕様と型式
コンポーネントの仕様、純度、粒子サイズなどのカスタマイズについては、お気軽にご相談ください。当社は、お客様の蒸着、接着、パッケージングの要件に合わせたカスタマイズされた材料ソリューションを提供できます。
| 分類次元 | 製品タイプ | コア機能 |
| 純度グレード | さまざまな純度の金-粒子 | アプリケーションは、一般的な蒸着および接合シナリオ、半導体パッケージング、光電子デバイスおよび精密パッケージング、さらには高度な製造プロセスなど、純度レベルに応じて異なります。 |
| 成分の割合 | 標準共晶組成 | 業界-全体の全般 |
| 製品形式 | 蒸発ペレット/顆粒 | 寸法が均一なので、蒸着ボートやるつぼでの使用に適しています。 |
製品の利点
- 均一な成分分布
- 高い蒸着効率と精密な膜厚制御精度
- 高い接着強度
- 不純物含有量が低く、汚染レベルが低い
- 適度な融点
応用
- 半導体デバイスのウェーハ接着およびパッケージング
- 光電子デバイス、レーザー、検出器;ガス密封包装
- 微小電気機械システム (MEMS) パッケージング
- 真空電子機器、高信頼性の密閉接続-
- 薄膜回路、電極、バリア層の準備-
- ハイエンドの科学研究実験用の薄膜堆積-{1}}
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